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| Vertriebsvereinbarung |
| Carl Zeiss SMT übernimmt globalen Exklusivvertrieb für HAP Pellicle Removal Tools | Downloads und Links | ||
| Carl Zeiss übernimmt exklusiv den Vertrieb eines von HAP entwickelten Gerätes für die Photomasken-Industrie | RTF-Dokumente Weitere Informationen | ||
| JENA, 02.06.2009. Die Semiconductor Metrology Systems Division (SMS) von Carl Zeiss SMT vertieft ihre Partner- schaft mit der Dresdner Firma HAP. Zukünftig wird sie exklusiv den weltweiten Vertrieb eines Photo- masken „Pellicle Removal Tools“ übernehmen. Das Gerät dient der automatisierten und schonen- den Entfernung von Schutzfolien auf photolithogra- phischen Masken. Die Partner knüpfen damit an eine erfolgreiche Zusammenarbeit bei zurück- liegenden Entwicklungsprojekten an. „Wir sind froh, in HAP einen innovativen und zuverlässigen Partner gefunden zu haben, dessen Kompetenzen die unseren hervorragend ergänzen, “ erläutert Dr. Oliver Kienzle, Geschäfts- bereichsleiter der SMS Division. „Das System ermöglicht unseren Kunden, die Reinigung der hochsensiblen Photomasken noch prozess- sicherer zu gestalten und damit letztlich Kosten zu sparen.“ Die Firma HAP entwickelt spezifische Lösungen für Wafer und Substrate der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik. „Die Vetriebspartnerschaft mit Carl Zeiss generiert deutliche Synergien auf beiden Seiten. Wir können das weltweite Vertriebs- und Servicenetzwerk des Geschäftsbereichs SMS nutzen sowie deren weit- reichende Marktkenntnisse in der Halbleiterindu- strie. Im Gegenzug kann SMS seinen Kunden im Halbleitermarkt eine das eigene Portfolio ergänzende innovative Technologie anbieten.“ erklärt Dr. Steffen Pollack, Geschäftsführer HAP. Gegenstand der Vertriebsvereinbarung ist ein neues Gerät zur automatischen Entfernung des Pellicle (Rahmen mit einer Schutzfolie) von einer Photomaske mittels eines speziellen Thermo- verfahrens. Derzeitiger Stand der Technik ist die manuelle Entfernung des Pellicle, die allerdings zu schädlichen Verunreinigungen oder schlimm- stenfalls zur Zerstörung der Maske führen kann. Da Photomasken die kompletten Strukturinfor- mationen eines Mikrochips tragen, sind sie ein entscheidendes Werkzeug in der Halbleiterfertigung. ![]() Lothar Andritzke (GF HAP), Dr. Oliver Kienzle (GF SMS) und Dr. Steffen Pollack (GF HAP) (Reihe 1 von links nach rechts) bei der Vertragsunterzeich- nung, unterstützt von C. Sänn, Dr. A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (Reihe 2 v.l.n.r.) Nadine Schütze Carl Zeiss SMT Tel.: +49 3641 64 2242 Fax: +49 3641 64 2938 E-Mail: PI Nr.: 0105-2009-GER SE Wortzahl: 322 Zeichenzahl: 2686 |
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