Optiken für 193 nm

			Optiken für 193 nm


			Starlith® 1400 Starlith® 1400, das neueste lithographische Objektiv der Carl Zeiss SMT für die Beleichtungswellenlänge 193 nm, ist voll serientauglich und erreicht eine Auflösung von 65 nm. Im Vergleich zu anderen führenden Systemen können um beinahe 10 Prozent kleinere Strukturen hergestellt werden – dank der herausragenden numerischen Apertur (NA) von 0,93 (einstellbar im Bereich 0,65 – 0,93) und der perfekten Abbildungsqualität. In ersten Tests nach der Integration des Objektivs bei ASML wurde sogar ein Auflösungsvermögen von 55nm nachgewiesen. Starlith® 1400: High-resolution Lithography Lens delivered

			Starlith® 1250 Das Starlith® 1250 wird in den Scannern TWINSCAN XT: 1250 B (für 200 mm Wafer) und TWINSCAN XT: 1250 D (für 300 mm Wafer) von ASML eingesetzt. Seine im Bereich 0,6 bis 0,85 einstellbare numerische Apertur ermöglicht eine Auflösung von 80 nm und besser bei einem Bildfeld von 26x33 mm. Das Beleuchtungssystem bietet verschiedene Betriebsarten, so dass für unterschiedlichen Strukturtypen jeweils die ideale Einstellung für Kontrast, Auflösungsvermögen und Tiefenschärfe verwendet werden kann. Da die Wellenlänge 193 nm sehr nahe an der Absorptionskante von Quarzglas liegt, werden im Optiksystem Starlith® 1250 auch Einzellinsen aus synthetischem Kalziumfluorid eingesetzt.