Die diesjährige Semicon West show war eine ganz besondere Messe für Carl Zeiss SMT. Im Mittelpunkt stand die Einführung von XVIxion 300 – dem ersten gemeinsam mit SIINT entwickelten Waferanalyse-System. Auf der Pressekonferenz am 12. Juli wurde außerdem das Optiksystem Starlith® 1900 vorgestellt – die zweite Generation catadioptrischer Lithografieoptiken zur Waferbelichtung.
Am Abend des 12. Juli wurde dann der EuroAsia IC Industry Award für das AIMS™ fab 193i Maskenanalyse System von Carl Zeiss SMT vergeben.
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| XVision 300 FIB/SEM Nano-Scale Inspection and Defect Analysis Tool launched
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