2003
Im Geschäftsbereich Lithografieoptik wird das in der Mikroskopie seit langem verwendete Immersions-Verfahren für Halbleiterobjektive adaptiert. Der Partner ASML entwickelt, basierend auf dem neuen Objektivdesign, den Prototyp des weltweit ersten Immersionsscanners.
2003
Umbenennung der Carl Zeiss Microelectronics GmbH (MES) in Carl Zeiss SMS GmbH (Geschäftsbereich Semiconductor Metrology Systems). Fokussierung auf das Geschäft mit AIMS Maskeninspektionssystemen.
2002
Auslieferung des ersten Objektivs - ein Starlith® 1200 - aus dem neuen Werk
2001
7. Dezember 2001: Einweihung des neuen Werks für die Lithografieoptik – die ersten Reinräume sind fertiggestellt.
2001
1. Oktober 2001: Ausgründung des Unternehmensbereichs Halbleitertechnik als Carl Zeiss SMT AG zum Beginn des Geschäftsjahres 01/02.
2001
Mit Wirkung zum 1. April wird die unter LEO GmbH firmierende Elektronen-mikroskopie in den Unternehmensbereich Halbleitertechnik eingegliedert.
2000
Baubeginn für ein neues Werk am Ortsrand von Oberkochen
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