Lithographische Systeme
Schwerpunkte
Optiken für EUV-Lithographie
Optiken für 193 nm
Optiken für 193 nm Immersionslithographie
Optiken für 248 nm
Optik für 365 nm
Prinzip der Waferstepper und Waferscanner
Übersicht
Immer schneller und zuverlässiger, immer leistungsfähiger und dabei kostengünstiger - dies sind die Anforderungen, die seit dem Entstehen der Halbleiterindustrie ständig an Mikrochips gestellt werden. Seit über 40 Jahren werden optische Systeme als Schlüsselkomponenten für die Fertigung und Miniaturisierung von Chips geliefert und damit Chipherstellern überall auf der Welt der Weg zu innovativeren Chipdesigns und höherer Produktivität geebnet.

Die Optiken von Carl Zeiss SMT sind wesentlicher Bestandteil der Waferstepper und Waferscanner des niederländischen Partners und Systemintegrators ASML sowie der Microstepper des Ausrüsters Exitech.
Mehr Information
EUV-Lithografie: Meilenstein erreicht.
Erste Projektionsoptik für ASML´s Alpha-Demo-Tool geliefert.